РУС ENG
 
Interactive Corporation — японская торговая компания, основанная в 1993 году, поставляет высокотехнологичное научное и промышленное оборудование ведущих японских, европейских и американских производителей.
 
Interactive Corporation — авторизованный торговый агент компаний: JEOL Ltd., Oxford Instruments, Gatan, Advance Riko, Cornes Technologies, Yamazaki Mazak.
Авторизованный дилер JEOL Ltd в России и странах СНГ

Системы для плазмохимического газофазного осаждения алмазных плёнок

Системы для плазмохимического газофазного осаждения алмазных плёнок

"...Базируясь на наилучшей в мире плазмохимической технологии осаждения алмазных пленок, плазмохимические реакторы серии АХ фирмы Seki Technotron используются как в производстве, так и в научных исследованиях. С учетом общей наработки данного оборудования свыше 1 млн. на более чем 200 установках, работающих в различных лабораториях мира, СВЧ плазменная технология фирмы Seki Technotron является привлекательным выбором для ученых, желающих сократить время на разработку процесса и обеспечить совместимость результатов исследований с учеными в других лабораториях и институтах.
 
Уникальный гибкий СВЧ-реактор фирмы Seki и запатентованная конструкция CВЧ-сопряжения дают возможность СВЧ-обработки при высоких давлениях (>10 Торр), при средних давлениях (100 мТорр с дополнительными магнитами) и при низких давлениях (<10 мТорр с дополнительным магнитом и проточной камерой).
 
Эти системы используются во всем мире для выращивания различных материалов на основе углерода (алмазов, нанокристаллических алмазов и углеродных нанотрубок и т.п.) и неуглероденых материалов типа GaN, SiC и т.п. (с последними наработками по росту вискеров из оксида галлия и кремния). В частности, СВЧ-плазменные реакторы фирмы Seki Technotron для газофазного осаждения применяются для создания алмазных покрытий режущих инструментов, теплоотводов, устройств ПАВ (на поверхностных акустических волнах) и т.п. и для различных новых применений, основанных на использовании нанокристаллических алмазов.
 
На рис. 1 показана система для плазмохимического газофазного роста алмазных пленок фирмы Seki Technotron (Япония) c СВЧ-генератором мощностью 1,5 кВт. На данной системе, изменяя параметры газовой смеси и температуры подложки, можно выращивать не только алмазные и алмазоподобные пленки (как монокристаллические, так и поликристаллические), но и вертикально ориентированные углеродные нанотрубки (см. рис. 2) и другие наноматериалы (например, карбонитрид кремния, см. рис. 3) на подложках диаметром 50-100 мм. На рис. 4 показана система термического газофазного осаждения алмазных пленок с горячей нитью фирмы Seki-Technotron.
 

 

Кроме того, недавно была опубликована статья, в которой сообщалось о том, что на оборудовании фирмы Seki Technotron за 25 часов был выращен монокристаллический алмаз высотой 2,5 мм. Т.е. скорость роста алмаза на монокристаллической подложке достигала 0,1 мм/ч. Внешний вид данного алмаза показан на рис. 5. Столь большие скорости роста возможны при увеличении мощности плазменного СВЧ-разряда. Установки Seki-Technotron для промышленного применения имеют мощность СВЧ-генератора до 100 кВт. Путем изменения рабочих условий процесса осаждения можно получать как микрокристаллические (с размерами кристаллитов до 100 нм), так и нанокристаллические (с размерами кристаллитов от нескольких нм до нескольких десятков нм) алмазные пленки. Последние особенно требуются для оптических применений (в качестве ИК-окон и т.п.). Параметры кристалличности можно изменять, проводя осаждения при пониженном давлении водород-метановой смеси в камере роста (при этом снижается и скорость роста), либо заменяя водород в смеси аргоном..."

 

Взято из "Оборудование и технология изготовления алмазных и алмазоподобных пленок методом плазмохимического газофазного осаждения" С. А. Иванов, глава московского представительства компании «Interactive Corporation», официального представителя фирмы Seki-Technotron, производителя систем выращивания алмазных пленок методом газофазного плазмохимического осаждения.

 

Спектр применений CVD-реакторов компании Seki Diamond Systems (Япония) для выращивания алмазных пленок и пластин Выбор оборудования и функций для удовлетворения широкого спектра потребностей в синтезе алмазов
 
 SDS5010 

SDS5200 SDS6300 

SDS5250 SDS6350 

SDS6K SDS6500X 

Blue Wave Hot Filament 

NeoCoat Hot Filament 

W&L Low-Temp CVD 

Ручная/автоматизированная 

 ручная

 5200 ручная

6300 авто 

 5250 ручная

6350 авто 

 авторучная авто авто 
Мощность 1,5 кВт1,5 кВт 5 кВт 6 кВт    
Столик образцов с нагревом с охлаждением с охлаждением с нагревом   
Типичный/максимальный диаметр подложки, мм 25/60 50/10050/100 50/125 100/200 от 200×200 до 400×1180 100/300 
Возможность установки шлюзовой загрузочной камеры  
Выращивание микрокристаллических/нанокристаллических алмазных плёнок +
Выращивание монокристаллических алмазов +++   
Получение алмазов ювелирного качества    +   
Углеродные нанотрубки     +  
Графен     +  
Легирование бором ++
Выращивание алмазных плёнок при низких температурах ‹450°С       +
Алмазные покрытия на инструменте из карбида вольфрама      + 
Монокристаллические алмазные насадки для режущего и обрабатывающего инструмента    +   
Изолированные алмазы для задач рассеяния тепла (радиаторы и т.д.)   +   
Изолированные алмазные пластины для окон лазеров и пр.   +   
МЭМС и тонкие мембраны + 
Электронные устройства  ++   
Бюджетная исследовательская CVD-система с СВЧ-плазмой +      
Исследовательская CVD-система с горячей нитью     +  
Термостойкие , химически и механически стойкие покрытия для п/п пластин и больших подложек     +
Нанесение алмазных покрытий при массовом производстве      + 
Высокоскоростной рост алмазных плёнок   +   

 

 

Вышеприведенная таблица предназначена для демонстрации диапазона типичных применений, для которых могут использоваться высокочастотные CVD-системы и CVD-реакторы с горячей нитью. Помните, что многие из этих систем могут также использоваться или адаптироваться для дополнительных приложений синтеза алмазной пленки. Выбор оптимальной системы будет зависеть от ряда конкретных факторов, таких как размер подложки, толщина покрытия, качество пленки и скорость роста. Все вопросы следует адресовать компании «Интерактив Корпорэйшн», которая рассмотрит ваши требования и порекомендует такую конфигурацию системы с CVD-реактором, которая наилучшим образом будет соответствовать вашим потребностям и вашему бюджету, будь то исследования, разработка новых изделий, экспериментальная установка или переход на коммерческое производство. Пожалуйста, обращайтесь к нам по адресам info@intactive.ru и iacmsw@yahoo.com

Московское представительство компании Interactive Corporation
115191 Россия, Москва, ул. Большая Тульская, д.10, стр. 2, офис 222
тел/факс: +7 (495) 748 20 07, +7 (495) 737 51 68, e-mail: iac@microanalysis.ru